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應(yīng)用范圍：MSK-PSE-EC1515-D共蒸六源鈣鈦礦真空鍍膜儀配備6組蒸發(fā)源，可蒸鍍切換最多6種有機(jī)材料，也可同時(shí)共蒸2種材料如：Cu、Ag、PbI2、CsBr等材料；設(shè)備可與手套箱對(duì)接方便在手套箱中操作，采用前滑動(dòng)開門結(jié)構(gòu)。設(shè)備廣泛應(yīng)用于高校、科研院所的教學(xué)、科研實(shí)驗(yàn)以及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實(shí)驗(yàn)及開發(fā)新產(chǎn)品等。

應(yīng)用范圍： MSK-PSE-EC1515六源真空蒸鍍儀配備3組有機(jī)束源式蒸發(fā)源爐+3組舟式蒸發(fā)源，可蒸鍍切換最多6種有機(jī)材料如：Cu、Ag、C60、NPB、TPBi等材料；設(shè)備可與手套箱對(duì)接方便在手套箱中操作，采用前滑動(dòng)開門結(jié)構(gòu)。設(shè)備廣泛應(yīng)用于高校、科研院所的教學(xué)、科研實(shí)驗(yàn)以及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實(shí)驗(yàn)及開發(fā)新產(chǎn)品等。

應(yīng)用范圍：PCE-22-LD是一款可加熱的紫外臭氧清洗機(jī)，其加熱溫度可達(dá)150℃。此款設(shè)備可用于清洗各種基片，為制作高質(zhì)量的薄膜打好基礎(chǔ)。特別適合移除光刻膠，改善表面潤(rùn)濕性，清洗SEM＆TEM，紫外對(duì)聚合物改性等。紫外臭氧清洗提供了一種無(wú)酸、干燥對(duì)材料無(wú)損傷的原子級(jí)別清洗手段，特別適合清除一些有機(jī)化合物，紫外燈主要發(fā)出兩種波長(zhǎng)的光：185nm和254nm，其中185nm的光可把空氣中的氧氣變?yōu)槌魵?/p>

--小型等離子清洗機(jī) 應(yīng)用范圍：PCE-6小型等離子清洗機(jī)的等離子腔體為Ø160mm×190mm的石英腔體，采用的射頻電源功率3.0MHz（1%），輸出功率7.2W、10.2W、29.6W三檔可調(diào)。本機(jī)主要是通過空氣、氧氣或氬氣等氣體的等離子體來去除基片上的氧化層和污染物，同時(shí)也可改變物體表面的性質(zhì)（如親水和疏水性等），對(duì)于基片的清洗以及薄膜處理是較為理想的設(shè)備。

應(yīng)用范圍： MSK-PSC-SDM3030狹縫擠出式大理石平板涂布機(jī)是一款應(yīng)用于片狀基材表面涂覆的設(shè)備，采用狹縫擠壓方式進(jìn)行涂覆。該設(shè)備主要由擠壓模具、涂覆平臺(tái)、供料系統(tǒng)和控制系統(tǒng)組成。本設(shè)備主要用于平板顯示，OLED，太陽(yáng)能光電膜和聚合物導(dǎo)電膜、晶圓等領(lǐng)域的片式基材的表面涂覆。適合實(shí)驗(yàn)室或樣品線用于產(chǎn)品的工藝摸索與中試試制。

應(yīng)用范圍：MSK-PSC-MM2020狹縫擠出式平板涂布機(jī)是一款應(yīng)用于針對(duì)片狀基材進(jìn)行精密薄膜涂布的設(shè)備，采用狹縫擠出涂布方式，可完成對(duì)剛性基材（如玻璃）和柔性基材（如PET膜）涂覆工藝。設(shè)備主要由擠壓模具、涂布平臺(tái)、供料系統(tǒng)和控制系統(tǒng)組成。該設(shè)備主要用于燃料電池、鈣鈦礦太陽(yáng)能光電膜、OLED等領(lǐng)域的片式基材的表面涂覆。